| 全息光刻-离子束刻蚀制作磁性亚微米结构 |
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| 引用本文： | 张自军,徐向东,刘颖,邱克强,付绍军,洪义麟,郭玉献,徐鹏寿,蔡建旺. 全息光刻-离子束刻蚀制作磁性亚微米结构[J]. 真空科学与技术学报, 2008, 28(6) |
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| 作者姓名： | 张自军 徐向东 刘颖 邱克强 付绍军 洪义麟 郭玉献 徐鹏寿 蔡建旺 |
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| 作者单位： | 1. 中国科学技术大学国家同步辐射实验室,合肥,230029
2. 中国科学院物理研究所磁学国家重点实验室,北京,100080 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金 |
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| 摘 要： | 激光干涉制作亚微米尺寸磁性周期结构中,基底材料具有高反射率,由于垂直驻波的影响,光刻胶浮雕图形侧壁产生"束腰",本文将O2反应离子刻蚀引入到制作工艺中,对光刻胶图形进行修正,获得了很好的效果,具有工艺简单、可控性好等特点。以50nm厚的由磁控溅射生长的Ta/Co0.9Fe0.1/Ta薄膜为基底,采用激光干涉光刻结合离子束刻蚀转移图形的方式,制作出了特征尺寸为330nm Co0.9Fe0.1亚微米周期结构,并采用SQUID的技术对其磁滞回线进行了研究。
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| 关 键 词： | 光刻胶灰化 全息光刻 垂直驻波 磁性微结构 |
Sub-Micron Structures of Magnetic Materials Fabricated by Laser Holographic Lithography Combined with Ion Beam Etching |
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| Zhang Zijun,Xu xiandong,Liu Ying,Qiu Keqiang,Fu shaojun,Hong Yilin,Guo Yuxian,Xu Pengshou,Cai Jianwang. Sub-Micron Structures of Magnetic Materials Fabricated by Laser Holographic Lithography Combined with Ion Beam Etching[J]. JOurnal of Vacuum Science and Technology, 2008, 28(6) |
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| Authors: | Zhang Zijun Xu xiandong Liu Ying Qiu Keqiang Fu shaojun Hong Yilin Guo Yuxian Xu Pengshou Cai Jianwang |
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