|
|||||
|
|
| 等离子刻蚀a-Si:H/a-C:H超晶格 | |
| 引用本文： | 王玉玲,张青.等离子刻蚀a-Si:H/a-C:H超晶格[J].半导体学报,1988,9(3):325-327. |
| 作者姓名： | 王玉玲 张青 |
| 作者单位： | 中国科学院微电子中心 北京 (王玉玲)，中国科学院半导体研究所 北京(张青) |
| 摘 要： | 本文介绍了 C_yF_(14)+ O_2等离子刻蚀 a=Si:H/a-C:H 超晶格的工艺原理及方法,简便可行. |
| 关 键 词： | a-Si:H/a-C:H 超晶格 等离子刻蚀 |
Plasma Etching a-Si:H/a-C: H Superlattice |
|
| Wang Yuling/Microelectronics Center,Chinese Academy of Sciences. BeijnigZhang Qing/Semiconductor Institute,Chinese Academy of Sciences,Beijing.Plasma Etching a-Si:H/a-C: H Superlattice[J].Chinese Journal of Semiconductors,1988,9(3):325-327. | |
| Authors: | Wang Yuling/Microelectronics Center Chinese Academy of Sciences BeijnigZhang Qing/Semiconductor Institute Chinese Academy of Sciences Beijing |
| Abstract: | A method of plasma etching a-Si:H/a-C:H superlatice using C_7F_(14)_O_2 is reported. It issimple and feasible. |
| Keywords: | a-Si:H/a-C:H Superlattice Plasma etching |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
| 点击此处可从《半导体学报》浏览原始摘要信息 | |
| 点击此处可从《半导体学报》下载全文 | |