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热丝CVD法生长纳米金刚石薄膜的研究
引用本文:张志明,莘海维,戴永兵,孙方宏,汪涛,沈荷生. 热丝CVD法生长纳米金刚石薄膜的研究[J]. 微细加工技术, 2003, 0(1): 27-33
作者姓名:张志明  莘海维  戴永兵  孙方宏  汪涛  沈荷生
作者单位:上海交通大学微电子研究所,上海,200030
基金项目:国家863计划新材料领域纳米专项资助项目(2002AA302613),上海市科技发展基金纳米专项资助项目(0159nm033),上海交通大学教育部薄膜与微细技术重点实验室资助项目
摘    要:系统地研究了热丝CVD法中反应气体压力对沉积产物金刚石薄膜的形貌和拉曼谱图的影响,提出了热丝CVD生长纳米金刚石薄膜的新工艺,并在50mm硅片上沉积得到高质量的多晶纳米金刚石薄膜。高分辨透射电镜分析表明,薄膜的晶粒尺寸约为10nm,〈111〉晶面间距为0.2086nm,与标准值0.2059nm很接近,晶粒周围由非晶结构包围。紫外激光拉曼光谱有尖锐的金刚石峰和明显的石墨峰。

关 键 词:纳米金刚石 薄膜 热丝CVD
文章编号:1003-8213(2003)01-0027-07
修稿时间:2002-12-09

Synthesis of Nanocrystalline Diamond Films Deposited by Hot Filament CVD
Abstract:
Keywords:nanocrystalline diamond  film  hot filament CVD
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