MC法模拟与实验验证高气压电离室能量响应 |
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引用本文: | 漆成龙,丁卫撑,黄平,龚岚,刘博帅.MC法模拟与实验验证高气压电离室能量响应[J].核电子学与探测技术,2023(6):1126-1130. |
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作者姓名: | 漆成龙 丁卫撑 黄平 龚岚 刘博帅 |
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作者单位: | 1. 成都理工大学核技术与自动化工程学院;2. 中国测试技术研究院辐射研究所 |
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基金项目: | 国家自然科学基金(41774140); |
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摘 要: | 使用MCNP5对两个高气压电离室进行MC模拟,并完成实验测量,分别得到两个电离室的两种能量响应结果。将模拟结果与实验结果对比发现,两种结果在低能量段差异较大,两个电离室都在48 keV处相对偏差最大;在高能量段差异较小,1号电离室在1 250 keV处相对偏差最大,2号电离室在662 keV处相对偏差最大;两种结果在164~1 250 keV能量段的能量响应整体范围相近。最后分析发现在低能量段差异较大的主要原因是电离室的制造误差和模拟计算能量沉积时产生的计算误差。
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关 键 词: | MCNP5 高气压电离室 MC模拟 实验测量 能量响应 计算误差 |
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