| 化学气相沉积制备铂族金属涂层及难熔金属 |
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| 引用本文： | 魏燕,胡昌义,王云,欧阳远良,陈力,蔡宏中.化学气相沉积制备铂族金属涂层及难熔金属[J].贵金属,2008,29(2):62-66. |
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| 作者姓名： | 魏燕 胡昌义 王云 欧阳远良 陈力 蔡宏中 |
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| 作者单位： | 昆明贵金属研究所,云南,昆明,650106 |
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| 摘 要： | 综述了化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,简称CVD)技术制备高温抗氧化涂层-铂族金属(Pt、Ir)涂层及难熔金属(W、Mo、Ta、Nb、Re)的方法.并对部分有报道的沉积参数以及沉积参数对沉积层结构及性质的影响进行了介绍.
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| 关 键 词： | 金属材料 铂族金属薄膜 难熔金属 制备 化学气相沉积 化学 气相沉积 金属涂层 难熔金属 Platinum Group Metals Refractory Coatings Deposition 影响 性质 沉积层结构 沉积参数 方法 铂族金属 高温抗氧化涂层 Chemical |
| 文章编号： | 1004-0676(2008)02-0062-05 |
| 修稿时间： | 2007年3月26日 |
Chemical Vapor Deposition of Platinum Group Metals Coatings and Refractory Metals |
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| WEI Yan,HU Changyi,WANG Yun,OUYANG Yuanliang,CHEN Li,CAI Hongzhong.Chemical Vapor Deposition of Platinum Group Metals Coatings and Refractory Metals[J].Precious Metals,2008,29(2):62-66. |
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| Authors: | WEI Yan HU Changyi WANG Yun OUYANG Yuanliang CHEN Li CAI Hongzhong |
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