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| 电弧源喷射微粒及膜沉积率空间分布 | |
| 引用本文： | 张世良,陈鹏.电弧源喷射微粒及膜沉积率空间分布[J].真空与低温,1989,8(4):3-5. |
| 作者姓名： | 张世良 陈鹏 |
| 作者单位： | 兰州物理研究所，兰州物理研究所，兰州物理研究所，兰州物理研究所，兰州物理研究所，兰州物理研究所，兰州物理研究所 |
| 摘 要： | 测量了冷阴极电弧源镀膜时膜沉积率及源喷出的微粒空间分布。为了获得最大沉积率及减少膜层中微粒,给出了工件最佳工作位置选择。 |
| 关 键 词： | 离子镀膜 涂复设备 沉积 |
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