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杂志ISSN号
溅射铁膜的结构和磁性能
作者姓名:
肖春涛 赵俊慧
作者单位:
兰州大学磁性材料研究所
摘 要:
简要回顾了磁头用薄膜材料的晚近发展。用射频溅射制备了软磁性纯铁膜并考察了溅射条件和真空退火对铁膜微结构和磁性能的影响。所有铁膜都是取向的。随着阳极电压VA的增大。晶格变形变量减小,矫顽力HC下降。
关 键 词:
溅射铁膜 微结构 软磁性能 软磁材料
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