台湾研制出新颖电子束光阻材料

电子束光刻（electron beam lithography）是一种以电子束为工具的纳米制作技术，它是利用电子束在光阻上绘制纳米级图案，再经后续显影步骤，即可轻易制作出线宽仅数纳米的高解析结构。其中，高分子聚甲基丙烯酸甲酯（poly（nlethyl methacrylate，PMMA）是一种很普遍的压克力材料，它被大量应用在电子束光阻的材料上，且己商业化。