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聚甲基丙烯酸甲酯LB膜用作高分辨率电子束抗蚀层的研究
作者姓名:
鲁武 沈浩瀛
摘 要:
应用LB技术制备了厚度为20-100nm的聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)超薄高分辨率电子束抗蚀层。应用改装的日产S-450扫描电子显微镜(SEM),研究了PMMA LB膜的曝光特性和刻蚀条件。结果得到线宽0.15μm的铝掩模光栅图形,表明此种超薄膜具有良好的分辨率和足够的抗蚀性。
关 键 词:
LB膜 电子束刻蚀 抗蚀剂 PMMA 电子器件
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