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化学织构化硅表面OTS自组装膜形貌及性能表征
引用本文:庞重军,于波,宋仕永,巩育军. 化学织构化硅表面OTS自组装膜形貌及性能表征[J]. 润滑与密封, 2007, 32(11): 112-114,121
作者姓名:庞重军  于波  宋仕永  巩育军
作者单位:茂名学院,广东茂名,525000;中国科学院兰州化学物理研究所,甘肃兰州,730000
基金项目:广东省自然科学基金;茂名学院校科研和教改项目
摘    要:用40%NH4F对Si(100)表面进行化学织构化,然后用十八烷基三氯硅烷(OTS)进行分子自组装,在织构化表面谷底区域形成液体凝聚(LC)相分子薄膜。织构化表面的典型山丘直径约30 nm,高约7 nm;典型的LC相OTS单层膜原子力显微镜(AFM)厚度约2.3 nm。随着反应时间的延长,OTS薄膜的LC相面积覆盖率逐渐增加,30m in后达到70%左右的平衡值。OTS组装8 min后的表面静态接触角即达108°左右,且表面接触角不再随反应时间的延长或LC相面积覆盖率的增加而明显变化。组装的OTS薄膜能显著改善织构化硅表面的摩擦学性能。

关 键 词:薄膜  自组装  OTS  形貌  性能表征
文章编号:0254-0150(2007)11-112-3
修稿时间:2007-07-31

Topographical and Performance Characterization of OTS Self-assembled Monolayer on Chemically Textured Silicon Surfaces
Pang Chongjun,Yu Bo,Song Shiyong,Gong Yujun. Topographical and Performance Characterization of OTS Self-assembled Monolayer on Chemically Textured Silicon Surfaces[J]. Lubrication Engineering, 2007, 32(11): 112-114,121
Authors:Pang Chongjun  Yu Bo  Song Shiyong  Gong Yujun
Affiliation:1. Maoming College, Maoming Guangdong 525000, China; 2. Lanzhou Institute of Chemical Physics,Chinese Academy of Sciences, Lanzhou Gansu 730000, China
Abstract:
Keywords:OTS
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