| 高精度光刻物镜的变形研究 |
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| 引用本文： | 雷江,蒋世磊,程刚. 高精度光刻物镜的变形研究[J]. 光电工程, 2005, 32(2): 12-14 |
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| 作者姓名： | 雷江 蒋世磊 程刚 |
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| 作者单位： | 中国科学院光电技术研究所,四川,成都,610209;中国科学院研究生院,北京,100039;中国科学院光电技术研究所,四川,成都,610209 |
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| 摘 要： | 高精度光刻物镜是微电子光刻专用设备中的关键部件之一,不仅要求光刻物镜的精度高,还要尽可能地减小装调误差。根据 193nm 光刻物镜的光学零件结构尺寸,利用大型有限元分析软件 Algor 和材料力学的应力变形理论,求得了结构形式与重力变形关系,支撑方式与变形的关系,材料不同时的变形趋势图,为整个光刻物镜的装配和调校提供了依据。研究表明,非均匀支撑是引起重力变形的主要原因,在物镜口径φ300mm 时采用 9 点以上支撑方式其最大变形量基本恒定,并可预留加工“误差”补偿重力变形。
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| 关 键 词： | 光刻物镜 变形分析 有限元分析 |
| 文章编号： | 1003-501X(2005)02-0012-03 |
| 收稿时间： | 2004-04-07 |
| 修稿时间： | 2004-04-07 |
Deformation of high-accuracy photolithographic objective lens |
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| LEI Jiang,JIANG Shi-lei,CHENG Gang. Deformation of high-accuracy photolithographic objective lens[J]. Opto-Electronic Engineering, 2005, 32(2): 12-14 |
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| Authors: | LEI Jiang JIANG Shi-lei CHENG Gang |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Photolithographic objective lens Deformation analysis Finite element analysis |
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