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金刚石表面离子束金属化研究
引用本文:李国卿,张家良,牟宗信,郭宝海,黄宁表,李述汤,何浩培,刘悦,刘会民,花吉珍,陈季文.金刚石表面离子束金属化研究[J].微纳电子技术,1998(5).
作者姓名:李国卿  张家良  牟宗信  郭宝海  黄宁表  李述汤  何浩培  刘悦  刘会民  花吉珍  陈季文
作者单位:大连理工大学三束材料改性国家重点实验室,香港城市大学,电子工业部第十三研究所
摘    要:采用离子束增强沉积技术对金刚石热沉材料表面金属化进行了研究,制备了Ti/Ni/AuIn和Cu/AuIn金属化体系。采用俄歇、EDS、XRD和SCRATCH方法对膜层和界面进行了分析。

关 键 词:金刚石  表面金属化  Ti/Ni/AuIn  Cu/AuIn

Metallization of Diamond by Ion Beam Enhanced Deposition
Li Guoqing,Zhang Jialiang,Mu Zongxin,Guo Baohai.Metallization of Diamond by Ion Beam Enhanced Deposition[J].Micronanoelectronic Technology,1998(5).
Authors:Li Guoqing  Zhang Jialiang  Mu Zongxin  Guo Baohai
Abstract:The results of metallization of diamond hit sick by ion beam enhanced deposition were reported in this paper.The novel metalliszation schemes with Ti/Ni/AuIn and Cu/AuIn were developed.The surface and interface of the metallization layer were ana lysed by use of Auger,EDS,XRD and SCRATCH methods.
Keywords:Diamond  Surface metallization  Ti/Ni/AuIn  Cu/AuIn
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