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<正>应用材料公司推出新Carina系统克服高k介电常数/金属栅极刻蚀难题应用材料公司推出Centura(r)Carina(tm)Etch系统用于世界上最先进晶体管的刻蚀。该系统能提供45nm及更小技术节点上采用高k介电常数/金属栅极的逻辑和存储器件工艺扩展所必需的材料刻蚀轮廓,是目前唯一具有上述能力并可以用于生产的解决方案。这套系统高性能的关键之处在于其拥有知识产权的高温阴极。高温工艺可以提供平坦垂直的轮廓,不会产生传统温度工艺下带来困扰的高k介质材料残留和硅材料凹陷。