光致抗蚀剂在半导体制造中的应用

本文对市场上可采用的光致抗蚀剂应用体系的现状进行评论并做出评价。当应用于半导体工业时,应用体系在光致抗蚀剂的制备中有严格的要求。本文讨论的内容如下:颗粒物质纯化的光致抗蚀剂的制备、表面条件及表面处理、抗蚀剂的旋转复涂机的应用、成象条件及紫外光源、显影、烘烤、腐蚀、清洗及去胶等。