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| 合成塔触媒层温度的计算机控制 | |
| 作者姓名： | 李人厚 韩崇昭 |
| 作者单位： | 西安交通大学系统工程研究所，西安交通大学系统工程研究所，西安交通大学系统工程研究所 西安 710049，西安 710049，西安 710049 |
| 摘 要： | 本文提出了一种自校正预估算法,对合成塔的敏点和热点温度实现串级计算机控制,同时还引入了专家系统方法。该方法已应用于中型合成氨工艺过程控制,取得了比较好的效果。运行结果表明,合成塔触媒层热点温度可以控制在±3℃以内,从而取得明显的经济效益。 |
| 关 键 词： | 过程控制 自校正控制 合成塔 |
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