| 基于CD-SEM的线距标准样片测量 |
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| 引用本文： | 冯亚南,赵琳,李锁印,韩志国,许晓青. 基于CD-SEM的线距标准样片测量[J]. 上海计量测试, 2019, 0(1): 21-23 |
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| 作者姓名： | 冯亚南 赵琳 李锁印 韩志国 许晓青 |
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| 作者单位： | 中国电子科技集团公司第十三研究所 |
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| 摘 要： | 针对线距标准样片线间距的测量需求,基于关键尺寸扫描电镜(CD-SEM),提出了一种宽度测量方法。首先,介绍了CD-SEM测量系统的基本原理;其次,使用CD-SEM对VLSI生产的标称尺寸为100 nm、3μm、10μm的线距标准样片进行了测量;最后,对测量不确定度进行评定,并将测量结果与VLSI标准样片证书给出的标准值进行比对。结果表明:En值最大为-0.7,CDSEM测量线间距的准确度很高。
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| 关 键 词： | 线间距 CD-SEM 不确定度 线距样片 |
Measurement of the pitch sample by CD-SEM |
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| Feng Yanan,Zhao Lin,Li Suoyin,Han Zhiguo,Xu Xiaoqing. Measurement of the pitch sample by CD-SEM[J]. Shanghai Meassurement and Testing, 2019, 0(1): 21-23 |
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| Authors: | Feng Yanan Zhao Lin Li Suoyin Han Zhiguo Xu Xiaoqing |
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| Affiliation: | (The 13th Institute of CETC) |
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| Abstract: | Feng Yanan;Zhao Lin;Li Suoyin;Han Zhiguo;Xu Xiaoqing(The 13th Institute of CETC) |
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| Keywords: | pitch,CD-SEM uncertainty pitch sample |
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