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| FED的光刻技术 | |
| 引用本文： | 王邦江,李德杰.FED的光刻技术[J].微细加工技术,1998(3):46-50. |
| 作者姓名： | 王邦江 李德杰 |
| 作者单位： | 清华大学电子工程系!北京100084 |
| 基金项目： | 彩虹集团资助的 FED研究项目 |
| 摘 要： | 通过数值计算分析了 FED接触光刻的中衍射效应 ,并在现有的条件下实现了一种简单而实用的大面积一微米直径微孔的接触光刻方法。 |
| 关 键 词： | 费涅尔衍射 场发射平板显示器FED 光刻 |
LITHOGRAPHY TECHNOLOGY OF FED |
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| Wang Bangjiang,Li Dejie.LITHOGRAPHY TECHNOLOGY OF FED[J].Microfabrication Technology,1998(3):46-50. | |
| Authors: | Wang Bangjiang Li Dejie |
| Abstract: | |
| Keywords: | Fenier diffraction FED lithography |
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