| 用接触式显微术方法研究软X射线光刻胶特性 |
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| 引用本文： | 王占山,刘毅楠.用接触式显微术方法研究软X射线光刻胶特性[J].微细加工技术,1998(2):41-44. |
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| 作者姓名： | 王占山 刘毅楠 |
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| 作者单位： | 中国科学院长春光学精密机械研究所应用光学国家重点实验室 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金,应用光学国家重点实验室基金 |
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| 摘 要： | 我们用Ｈｅｎｋｅ型软Ｘ射线源完成了栅网的接触式成像，采用Ｔａｌｙｓｔｅｐ台阶仪测量了不同曝光时间ＰＭＭＡ光刻胶的溶解速率。由测量曲线可知光刻胶在显影开始时速率较快，随着时间的增加，溶解速率逐渐趋缓，最后达到所有的曝光时间下的样品的溶解速率都相同。这与理论分析十分吻合。
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| 关 键 词： | 接触式显微术 光刻胶 溶解速率 |
PHOTORESIST PERFORMANCE STUDIES USING X RAY CONTACT MICROSCOPY |
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| Wang Zhangshan,Liu Yinan,Cao Jianlin.PHOTORESIST PERFORMANCE STUDIES USING X RAY CONTACT MICROSCOPY[J].Microfabrication Technology,1998(2):41-44. |
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| Authors: | Wang Zhangshan Liu Yinan Cao Jianlin |
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| Abstract: | The contact images of the meshes were obtained using a Henke type X ray source whose working length is 4. |
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| Keywords: | Soft X ray contact microscopy Photoresist development speed |
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