φ1mm电磁型微电机定子绕组研制 |
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引用本文: | 赵小林,杨春生.φ1mm电磁型微电机定子绕组研制[J].微细加工技术,1998(3):58-62. |
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作者姓名: | 赵小林 杨春生 |
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作者单位: | 上海交通大学信息存储研究中心!上海200030 |
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摘 要: | 本文主要阐述应用微细加工技术研究和开发1 mm电磁型微电机定子绕组的制备工艺。采用高 -高比光刻技术和掩模电镀工艺 ,解决了高 -高宽比线圈的制备工艺 ,有效地降低了线圈的直流电阻 ,另外用 Al2 O3薄膜溅射工艺解决了线圈层间的绝缘 ,并且提高了线圈的抗发热等级。本研究结果为 4层 2 8圈 3对 9组绕组系统。微电机定子绕组直径为 1 mm,最小线间距为 1 μm,最大工作电流可达 1 80 m A,单相直流电阻在 1 0— 2 0Ω之间。
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关 键 词: | 高-高比光刻 定子绕组 电磁型微电机 掩模电镀 |
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