| 光刻胶灰化工艺与深亚微米线条的制作 |
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| 引用本文： | 孙自敏,刘理天.光刻胶灰化工艺与深亚微米线条的制作[J].微细加工技术,1998(2):31-36. |
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| 作者姓名： | 孙自敏 刘理天 |
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| 作者单位： | 清华大学微电子所 |
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| 摘 要： | 随着器件尺寸的缩小，细线条的制作成为很关键的工艺，普通光学光刻已接近其分辨率的极限，而电子束光刻和Ｘ射线光刻技术复杂、费用昂贵。本文对光刻胶灰化工艺进行了分析和研究，并应用此工艺进行了深亚微米线条的制作，在普通光学光刻机上制作出宽度小于０．２５μｍ细线条。我们已将此工艺成功地应用在深亚微米ＭＯＳＦＥＴ的制作中。
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| 关 键 词： | 光刻 光刻胶灰化工艺 深亚微米线条 |
PHOTORESIST ASHING PROCESS AND FABRICATION OF DEEP SUBMICROMETER LINES |
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| Sun Zimin,Liu Litian,Li Zhijian.PHOTORESIST ASHING PROCESS AND FABRICATION OF DEEP SUBMICROMETER LINES[J].Microfabrication Technology,1998(2):31-36. |
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| Authors: | Sun Zimin Liu Litian Li Zhijian |
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| Keywords: | lithography photoresist ashing process deep submicrometer line |
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