| 镓液态金属离子源的制备 |
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| 引用本文： | 董桂芳,袁忠远.镓液态金属离子源的制备[J].微细加工技术,1998(3):42-45. |
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| 作者姓名： | 董桂芳 袁忠远 |
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| 作者单位： | 清华大学电子工程系!北京100084 |
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| 摘 要： | 镓液态金属离子源广泛应用于聚焦离子束技术 ,本文介绍了一种利用电子轰击的方法制备镓液态金属离子源的工艺和设备 ,测试了源的 I- V发射特性曲线 ,d I/ d V≈ 0 .0 5 ( μA/ V) ,进行了新旧工艺下电流发射稳定度的比较 ,最佳源发射稳定度大于 95 % ,寿命大于 1 0 0 0小时。
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| 关 键 词： | 液态金属离子源 聚焦离子束 微细加工 |
FABRICATION OF GA LIQUID METAL ION SOURCE |
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| Dong Guifang Yuan Zhongyuan Wang jianru,Ying Genyu Zhang Keqian.FABRICATION OF GA LIQUID METAL ION SOURCE[J].Microfabrication Technology,1998(3):42-45. |
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| Authors: | Dong Guifang Yuan Zhongyuan Wang jianru Ying Genyu Zhang Keqian |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | liquid metal ion source focused ion beam micro fabrication |
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