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室温下形成氧化铝薄膜日本理化学研究所开发出一项划时代的新技术,即使用有机铝气体,在室温下,在金属和半导体等表面均匀形成氧化铝薄膜。如果用该法在不锈钢管内形成薄膜,耐腐蚀性将提高约200倍,使核动力装置等的安全性能显著提高。另外,据说也能在镓砷半导体上形成氧化铝绝缘膜。