| 含氧气氛直流磁控溅射薄膜铂电阻制备及性能研究 |
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| 引用本文： | 林锋,于月光,李世晨,曾克里,任先京,贾贤赏. 含氧气氛直流磁控溅射薄膜铂电阻制备及性能研究[J]. 金属功能材料, 2006, 13(2): 25-28 |
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| 作者姓名： | 林锋 于月光 李世晨 曾克里 任先京 贾贤赏 |
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| 作者单位： | 北京矿冶研究总院金属材料研究所,北京,100044;中南大学材料科学与工程学院,湖南,长沙,410083 |
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| 基金项目： | 北京市矿冶研究总院科研项目;教育部重点实验室基金 |
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| 摘 要： | 本文采用直流磁控溅射方法,在特殊的含氧气氛条件下,用高纯铂靶在氧化铝陶瓷基板上制备出高性能铂薄膜热敏电阻.利用扫描电子显微镜对铂电阻薄膜微观组织进行分析,利用X射线衍射分析仪对薄膜的物相及晶粒尺寸进行标定.测定薄膜铂电阻的阻温特性曲线,计算电阻温度系数（TCR）值.结果表明：含氧气氛下直流磁控溅射制备的薄膜铂电阻经过高温处理后完全脱氧,得到纯度高、结构致密均匀、附着强度高、热敏电阻性能优异的高性能铂薄膜电阻.
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| 关 键 词： | 直流磁控溅射 薄膜 热敏电阻 铂 |
| 文章编号： | 1005-8192(2006)02-0025-04 |
| 收稿时间： | 2005-10-20 |
| 修稿时间： | 2005-10-20 |
Preapration and Properties of Platinum Film Resistance by DC Magnetron Sputtering in Oxygen-containing Gas |
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| LIN Feng,YU Yue-guang,LI Shi-chen,ZENG Ke-li,REN Xian-jing,JIA Xian-shang. Preapration and Properties of Platinum Film Resistance by DC Magnetron Sputtering in Oxygen-containing Gas[J]. Metallic Functional Materials, 2006, 13(2): 25-28 |
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| Authors: | LIN Feng YU Yue-guang LI Shi-chen ZENG Ke-li REN Xian-jing JIA Xian-shang |
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| Affiliation: | 1. Beijing General Research Institute of Mining and Metallurgy, Beijing 100044, China; 2. School of Materials Science and Engineering, Central South University,Changsha 410083, China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | DC magnetron sputtering film, thermal resistor platinum |
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