| XeF激光器中XeF2气体的监测 |
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| 引用本文： | 赖富相,张永生.XeF激光器中XeF2气体的监测[J].激光技术,2001,25(6):469-472. |
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| 作者姓名： | 赖富相 张永生 |
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| 作者单位： | 1.昆明技术物理研究所, 昆明, 650223; |
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| 摘 要： | 给出了一种用吸收光谱法实时监测XeF激光器中XeF2气体压强的方法,标定了XeF2气体在波长为253.7nm处的吸收截面的大小Ó2253.27XeF=(1.55±0.05)×10-19cm2.用该监测系统测量了XeF2气体与3种作为激光器气室材料的反应速率,同时研究了XeF蓝绿激光器中输出激光能量与XeF2气体压强的关系.
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| 关 键 词： | XeF2 吸收截面 准分子激光 |
| 收稿时间： | 2000-08-28 |
| 修稿时间： | 2000年8月28日 |
XeF2 measurement in XeF laser |
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| Lai Fuxiang,Zhang Yongsheng.XeF2 measurement in XeF laser[J].Laser Technology,2001,25(6):469-472. |
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| Authors: | Lai Fuxiang Zhang Yongsheng |
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| Abstract: | A method of non contact and real-time measurement for XeF2 pressure in the XeF laser cell is provided in this paper.The absorption cross section of XeF2 at wavelength of 253.7nm σ253.27XeF=(1.55±0.05)×10-19cm2 is obtained.Using the same measurement system,the suitable laser tube materials is choosed and the relations between laser output energy and the pressure of XeF2 are presented. |
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| Keywords: | XeF 2 absorption cross section excimer |
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