用双刀架光刻方法提高圆分划的刻划精度 |
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引用本文: | 蒋朝江.用双刀架光刻方法提高圆分划的刻划精度[J].光电工程,1977(2). |
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作者姓名: | 蒋朝江 |
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摘 要: | 分析了圆刻度机进行圆分划的误差来源,提出了用对径布置双刀架光刻方法来消除圆刻度机主轴晃动及刀架切向位移所引起的刻划误差。在同一圆刻度机上多次试验表明,直径为100毫米、刻线为10800条的圆光栅,用单刀架光刻,最大直径误差为1.0角秒左右;用对径双刀架光刻,最大直径误差为0.2~0.4角秒。实践证明,对径布置双刀架光刻法是提高圆刻度机刻划精度的有力手段。
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