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| 氧氮比对真空电弧沉积TiO_(2-x)N_x薄膜结构和性能的影响 | |
| 引用本文： | 胡永俊,成晓玲,胡社军,曾鹏,魏志钢.氧氮比对真空电弧沉积TiO_(2-x)N_x薄膜结构和性能的影响[J].稀有金属,2010,34(4). |
| 作者姓名： | 胡永俊 成晓玲 胡社军 曾鹏 魏志钢 |
| 作者单位： | 1. 广东工业大学轻工化工学院,广东,广州,510006 2. 五邑大学物理系,广东,江门,529020 3. 广东工业大学材料与能源学院,广东,广州,510006 |
| 基金项目： | 国家自然科学基金项目 |
| 摘 要： | 采用真空电弧沉积技术在玻璃上制备了N掺杂TiO2复合薄膜。通过X射线电子能谱(XPS)、X射线衍射(XRD)、紫外可见光谱(UV-Vis)等测试技术研究了沉积过程中氧氮比对TiO2-xNx薄膜结构和性能的影响。实验结果表明,经500℃退火后的TiO2-xNx薄膜均为锐钛矿相,N原子在TiO2网络结构中以取代O原子的形式存在。TiO2-xNx复合薄膜在400～800 nm可见光区的透过率达60%,随着氮含量的增加,吸收边发生红移。在可见光下对酸性品红的降解表明TiO2-xNx薄膜具有可见光活性,随氧氮比的降低可见光催化活性逐渐增强。经自然光照射2 h,不同氧氮比制备的TiO2-xNx薄膜对大肠杆菌、金黄葡萄球菌的杀菌率均达99%以上。 |
| 关 键 词： | 氧氮比 微观结构 光催化活性 抗菌活性 |
Effect of Pressure Ratio of Oxygen/Nitrogen on Microstructure and Performance of TiO2-xNx Thin Films by Vacuum Arc Deposition |
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| Hu Yongiun,Cheng Xiaoling,Hu Shejun,Zeng Peng,Wei Zhigang.Effect of Pressure Ratio of Oxygen/Nitrogen on Microstructure and Performance of TiO2-xNx Thin Films by Vacuum Arc Deposition[J].Chinese Journal of Rare Metals,2010,34(4). | |
| Authors: | Hu Yongiun Cheng Xiaoling Hu Shejun Zeng Peng Wei Zhigang |
| Abstract: | |
| Keywords: | TiO2-xNx |
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