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TiAl的室温氢致滞后断裂
引用本文:高克玮,王燕斌,褚武扬. TiAl的室温氢致滞后断裂[J]. 金属学报, 1996, 32(1): 29-32
作者姓名:高克玮  王燕斌  褚武扬
作者单位:北京科技大学
摘    要:TiAl镀Ni-P后可避免阴极腐蚀,氢化物饱和的试样平面应力断裂韧性Kc(H)比空与中的Kc值低约20%,含饱和氢化物试样动态充氢时能发生滞后断裂,这是原子氢引起的,氢致滞后断裂门槛值KIH和Kc(H)的比值约为0.7。

关 键 词:TiAl合金 氢化物 氢致滞后断裂 阴极腐蚀 断裂韧性 钛铝合金 表面镀 Ni-P层 室温
收稿时间:1996-01-18
修稿时间:1996-01-18

HYDROGEN INDUCED DELAYED FRACTURE OF TiAl ALLOY AT ROOM TEMPERATURE
GAO Kewei,WANG Yanbin,CHU Wuyang. HYDROGEN INDUCED DELAYED FRACTURE OF TiAl ALLOY AT ROOM TEMPERATURE[J]. Acta Metallurgica Sinica, 1996, 32(1): 29-32
Authors:GAO Kewei  WANG Yanbin  CHU Wuyang
Abstract:A Ni-P plated TiAl alloy specimen may protect the cathodic corrosion. The fracture toughness of TiAl alloy specimen saturated with hydride, KC(H), is less than that in air, Kc . Atomic hydrogen could induce the delayed failure of the specimen saturated hydride during dynamically charging with hydrogen. The ratio, KIH/ KC (H), of the critical stress intensity for hydrogen induced delayed failure is about 0.7.
Keywords:TiAl alloy   hydride   hydrogen induced delayed fracture
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