| 常温下合成金刚石薄膜 |
| |
| 引用本文： | 刘铁林,刘南林.常温下合成金刚石薄膜[J].真空与低温,2002,8(2):88-89. |
| |
| 作者姓名： | 刘铁林 刘南林 |
| |
| 作者单位： | 深圳雷地科技实业公司,广东,深圳,518048 |
| |
| 摘 要： | 采用射频辉光放电的方法在含CH的混合气体的常温条件下制备了含碳的薄膜 ,通过Raman、XRD和SEM分析 ,检验了薄膜的性质 ,表明此膜含有大量的碳的SP3 键的金刚石成分 ,其晶粒为 10～ 10 0nm ,属于纳米金刚石膜。此膜已在玻璃镜片、塑料和磁盘等商品的保护方面获得了广泛的应用
|
| 关 键 词： | 金刚石薄膜 辉光放电 纳米 |
| 文章编号： | 1006-7086(2002)02-0088-02 |
| 修稿时间： | 2001年12月30 |
SYNTHETICS OF DIAMOND THIN FILMS AT ROOM TEMPERATURE |
| |
| LIU Tie-lin,LIU Nan-lin.SYNTHETICS OF DIAMOND THIN FILMS AT ROOM TEMPERATURE[J].Vacuum and Cryogenics,2002,8(2):88-89. |
| |
| Authors: | LIU Tie-lin LIU Nan-lin |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | diamond films glow discharge nanometer |
| 本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录！ |
|
