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InSb红外焦平面探测器背减薄技术
引用本文:邱宏,曹凌霞. InSb红外焦平面探测器背减薄技术[J]. 激光与红外, 2001, 31(5): 286-287
作者姓名:邱宏  曹凌霞
作者单位:华北光电技术研究所,
摘    要:文中着重介绍了InSb红外焦平面探测器薄技术工艺以及精抛对器件性能的影响。目前已较好的掌握了减薄至20μm的磨抛技术。

关 键 词:InSb 红外焦平面陈列 背减薄 红外探测器
文章编号:1001-5078(2001)05-0286-02
修稿时间:2001-04-27

InSb IRFPA Back Lapping Technology
QIU Hong,CAO Ling-xia. InSb IRFPA Back Lapping Technology[J]. Laser & Infrared, 2001, 31(5): 286-287
Authors:QIU Hong  CAO Ling-xia
Abstract:
Keywords:IRFPA  back lapping  fine polish.  
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