| 合金阴极箔化学腐蚀氯离子清洗工艺的研究 |
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| 引用本文： | 李文胜,陈圣修,张春莲. 合金阴极箔化学腐蚀氯离子清洗工艺的研究[J]. 电子元件与材料, 2001, 20(1): 12-13 |
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| 作者姓名： | 李文胜 陈圣修 张春莲 |
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| 作者单位： | 江西胜利电子有限公司研究所, |
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| 摘 要： | 介绍了合金阴极箔经化学腐蚀后清洗铝箔表面残留氯离子的几种方法 ,比较了各种方法的优缺点 ,提出了清洗不同比容阴极箔的适用方法
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| 关 键 词： | 阴极铝箔 氯离子 化学腐蚀 清洗工艺 |
| 文章编号： | 1001-2028(2001)01-0012-02 |
Tedhnologies for removing ddorine ions remained after etching cathode alloy foil |
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| LI Wen-sheng,CHEN Sheng-xiu,ZHANG Chnn-lian. Tedhnologies for removing ddorine ions remained after etching cathode alloy foil[J]. Electronic Components & Materials, 2001, 20(1): 12-13 |
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| Authors: | LI Wen-sheng CHEN Sheng-xiu ZHANG Chnn-lian |
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| Abstract: | Technologies for removing chlorine ions remained after etching cathode alloy foil are presented. Advantages and disadvantages of different technologies are compared. The methods for the foils of different specific capacitance are given.(no refs.) |
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| Keywords: | cathode Al foil chlorine ions chemical etch rinsing technology |
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