| 离子辅助沉积对 Nb2O5薄膜特性的影响 |
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| 引用本文： | 张德景,李明宇,顾培夫.离子辅助沉积对 Nb2O5薄膜特性的影响[J].浙江大学学报(自然科学版 ),2004,38(10):1387-1390. |
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| 作者姓名： | 张德景 李明宇 顾培夫 |
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| 作者单位： | 浙江大学现代光学仪器国家重点实验室，浙江大学现代光学仪器国家重点实验室，浙江大学现代光学仪器国家重点实验室 浙江杭州310027，浙江杭州310027，浙江杭州310027 |
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| 摘 要： | 为了提高Nb2O5薄膜的聚集密度,改善氧化铌薄膜的光学特性和机械特性,采用霍尔源离子辅助沉积(IDA)技术在K9玻璃基板上制备了Nb2O5单层薄膜,并与常规沉积条件下制备的Nb2O5薄膜作了比较.由于IAD技术使Nb2O5膜的聚集密度提高了14%,膜层折射率从常规工艺的2.03上升到2.18,膜层的附着力和牢固度从常规工艺的1.0×107N/m2提高到129.7×107N/m2.
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| 关 键 词： | Nb2O5薄膜 离子辅助沉积 聚集密度 附着力 |
| 文章编号： | 1008-973X(2004)10-1387-04 |
| 修稿时间： | 2003年9月13日 |
Study on performance of Nb2O5 films with ion assisted deposition |
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| ZHANG De-jing,LI Ming-yu,GU Pei-fuejiang University,Hangzhou ,China.Study on performance of Nb2O5 films with ion assisted deposition[J].Journal of Zhejiang University(Engineering Science),2004,38(10):1387-1390. |
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| Authors: | ZHANG De-jing LI Ming-yu GU Pei-fuejiang University Hangzhou China |
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| Affiliation: | ZHANG De-jing,LI Ming-yu,GU Pei-fuejiang University,Hangzhou 310027,China) |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Nb_2O_5 thin films ion assisted deposition packing density adhesion |
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