Bipolar制造工艺中硼扩散工艺的优化与改进 |
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引用本文: | 李丙旺.Bipolar制造工艺中硼扩散工艺的优化与改进[J].集成电路通讯,2003,21(1):16-18. |
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作者姓名: | 李丙旺 |
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摘 要: | 传统的双极电路制造工艺普遍采用了硼扩散工艺,主要用来形成重掺杂区。一般硼扩散都采用固相源扩散,通常用氮化硼圆片做为硼扩散的固相源,这些圆片的直径与硅片的直径相同或稍大一些。作为固相源的氮化硼因为在高温下反复进出炉,致使其常常容易变形,均匀性变差。采用一种固相源双面交替式使用法,不但使源片变形程度大大减小,也使硼扩散的均匀性得到很大提高。
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关 键 词: | Bipolar 制造工艺 硼扩散工艺 固相源 交替式 氮化硼圆片 双极电路 |
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