| 沉积位置对脉冲激光沉积纳米Si晶薄膜微观结构的影响 |
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| 引用本文： | 周阳,郑红芳,王英龙,刘保亭. 沉积位置对脉冲激光沉积纳米Si晶薄膜微观结构的影响[J]. 功能材料, 2009, 40(10) |
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| 作者姓名： | 周阳 郑红芳 王英龙 刘保亭 |
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| 作者单位： | 河北大学,物理科学与技术学院,河北,保定,071002;保定学院,河北,保定,071000 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目(10774036,60876055); 河北省应用基础研究计划重点基础研究资助项目(08965124D); 河北省自然科学基金资助项目(E2008000631,E2008000620); 教育部基金资助项目(207013) |
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| 摘 要： | 在4.0×10-4Pa的真空条件下,采用脉冲激光烧蚀技术在单晶Si衬底和石英衬底上制备了非晶纳米Si薄膜.在N2气氛下,经过900℃热退火得到纳米Si晶薄膜.采用表面台阶测试仪、扫描电子显微镜、拉曼光谱仪等检测手段对样品不同位置的微观结构进行了表征.测量结果表明制备的纳米Si晶薄膜厚度及其晶粒尺寸分布不均匀,随着测量点与样品沉积中心距离的增加,薄膜的厚度逐渐减小,纳米Si晶粒的尺寸逐渐增大.从脉冲激光烧蚀动力学的角度对实验结果进行了定性的分析.
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| 关 键 词： | 脉冲激光烧蚀 纳米Si薄膜 晶粒尺寸 羽辉动力学 |
Influnence of deposition position on the microstructure of nanocrrystalline Si film fabricated by pulsed laser deposition |
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| ZHOU Yang,ZHENG Hong-fang,WANG Ying-long,LIU Bao-ting. Influnence of deposition position on the microstructure of nanocrrystalline Si film fabricated by pulsed laser deposition[J]. Journal of Functional Materials, 2009, 40(10) |
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| Authors: | ZHOU Yang ZHENG Hong-fang WANG Ying-long LIU Bao-ting |
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| Affiliation: | ZHOU Yang1,ZHENG Hong-fang2,WANG Ying-long1,LIU Bao-ting1(1.College of Physics Science and Technology,Hebei University,Baoding 071002,China,2.Baoding University,Baoding 071000,China) |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | pulsed laser ablation nanocrystalline silicon grain size plume dynamics |
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