| 脉冲激光沉积法制备Pt薄膜的研究 |
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| 引用本文： | 李理,朱俊,李扬权,经晶,周文,罗文博,李言荣.脉冲激光沉积法制备Pt薄膜的研究[J].功能材料,2009,40(6). |
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| 作者姓名： | 李理 朱俊 李扬权 经晶 周文 罗文博 李言荣 |
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| 作者单位： | 电子科技大学,电子薄膜与集成器件国家重点实验室,四川,成都,610054 |
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| 基金项目： | 国家重点基础研究发展计划(973计划)资助项目(61363); 国家自然科学基金资助项目(50772019) |
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| 摘 要： | 采用脉冲激光沉积技术在(0001)取向的蓝宝石基片上外延生长了Pt单晶薄膜,研究了沉积温度和激光能量对Pt薄膜的晶体结构,表面形貌及电学性能的影响规律.X射线衍射(XRD)分析结果表明,在沉积温度650℃、激光脉冲频率1Hz和激光能量280mJ的条件下,制备得到的Pt(111)单晶薄膜,其(111)面ω摇摆曲线半高宽(FWHM)仅为0.068°.原子力显微镜(AFM)分析表明外延的Pt薄膜表面具有原子级平整度,其表面均方根粗糙度(RMS)约为1.776nm.四探针电阻测试结果显示薄膜方阻为1/962Ω/□,满足铁电薄膜的制备工艺对Pt底电极的要求.
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| 关 键 词： | 脉冲激光沉积(PLD) Pt薄膜 电学性能 表面形貌 蓝宝石衬底 |
Preparation for Pt thin films by pulsed laser deposition |
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| LI Li
,
ZHU Jun
,
LI Yang-quan
,
JING Jing
,
ZHOU Wen
,
LUO Wen-bo
,
LI Yan-rong.Preparation for Pt thin films by pulsed laser deposition[J].Journal of Functional Materials,2009,40(6). |
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| Authors: | LI Li ZHU Jun LI Yang-quan JING Jing ZHOU Wen LUO Wen-bo LI Yan-rong |
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| Affiliation: | LI Li,ZHU Jun,LI Yang-quan,JING Jing,ZHOU Wen,LUO Wen-bo,LI Yan-rong (State Key Laboratory of Electronic Thin Films and Integrated Devices,University of Electronic Science and Technology of China,Chengdu 610054,China) |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | pulsed laser deposition Pt thin film electrical properties surface morphology sapphire substrates |
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