光亮高镍添加剂及其电镀工艺

一、概述 为了提高防护装饰性电镀铜—镍—铬组合镀层的防护性能,采用扩大镍层间的电位差,使腐蚀的方向从纵向腐蚀改变为横向腐蚀,并减缓纵向腐蚀的速度,从而大大地提高防腐蚀性能。经过一年多时间,成功地合成了一种代号为NS—32的含硫的羟酸有机化合物作为瓦特槽的添加剂。这种添加剂的关键技术,在于含硫和在瓦特槽镀液中,经电解,能与镍共沉积,使镍镀层中的含硫量达0.2％左右(相当于光亮镍镀层的含硫量的3—4倍),此外该镀层具有脆性小、光亮镍的电位差>100mV、镀层光亮和工艺范围宽等特点。