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| 日本经济产业省推行绝缘膜开发项目计划 | |
| 作者姓名： | 李正 |
| 作者单位： | |
| 摘 要： | 日本经济产业省(METI)推行名为太平盛世(Millennium)先进信息技术项目研究(MIRAI),计划于2004年3月开发出高介电常数绝缘膜(简称高K材料)和低介电常数层间绝缘膜(低K材料)。据悉,2003年3月该项目将达到比利时大学微电子 |
| 本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录！ | |
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