| 多离子束沉积Ti-N膜横截面组织的电镜研究 |
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| 引用本文： | 万立骏,黑祖昆,高路斯,陈宝清. 多离子束沉积Ti-N膜横截面组织的电镜研究[J]. 材料研究学报, 1992, 6(3): 241-244 |
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| 作者姓名： | 万立骏 黑祖昆 高路斯 陈宝清 |
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| 作者单位： | 大连海运学院(万立骏，黑祖昆)，大连理工大学(高路斯)，大连理工大学(陈宝清) |
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| 基金项目： | 大连理工大学材料表面三束改性国家重点实验室资助 |
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| 摘 要： | 多离子束混合材料表面改性技术有比离子镀和离子注入方法优越之处。本文研究了高速钢(W18Cr4V)表面多离子束混合沉积 Ti-N 膜的横截面组织,结果表明,从基体至镀膜顶端共有5个层次的组织。在基体表面有一层约20nm 厚的 Ti-Fe 非晶合金层,非晶层外是层状 Ti_2N 组织,极细纤维状Ti_2N 组织,极细纤维状、略有粗化的纤维状以及细柱状的 Ti_2N 和 TiN 组织,最外层是细柱状的 TiN 组织。高速钢基体表面晶粒明显细化,且有约100nm 左右深度的 Ti-N-Fe 及其它基体元素的混合区。探讨了膜层形成机理及对性能影响。
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| 关 键 词： | 多离子束混合 镀膜的横截面组织 Fe-Ti非晶 Ti_2N TiN |
| 收稿时间： | 1992-06-25 |
| 修稿时间： | 1992-06-25 |
TEM STUDY ON CROSS SECTION STRUCTURE OF Ti-N FILM BY MIB |
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| WAN Lijun,HEI ZukunGAO Lusi,CHEN Baoqing. TEM STUDY ON CROSS SECTION STRUCTURE OF Ti-N FILM BY MIB[J]. Chinese Journal of Materials Research, 1992, 6(3): 241-244 |
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| Authors: | WAN Lijun HEI ZukunGAO Lusi CHEN Baoqing |
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| Affiliation: | WAN Lijun;HEI Zukun(Dalian Maritime University)GAO Lusi;CHEN Baoqing(Dalian University of Technology) |
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| Abstract: | In this paper the results of TEM study on cross section structure of Ti-N filmsby MIB are reported.There are five layers from the substrate of W18Cr4V to the top of the film:Fe-Ti amorphous alloy about 20nm,tier Ti_2N,fibre Ti_2N,fibre Ti_2N+TiN and thin columnarTiN.The substrate grains of W18Cr4V become finer.A mixing zone of Ti-N-Fe as well as W,V,Cr exists in about 100nm depth.The formative mechanism and the effect on properties of thefilm are discussed. |
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| Keywords: | multiple ion beam mixing cross section structure of film Fe-Ti amorphous alloy Ti_2N TiN |
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