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脉冲电压沉积制备金属Ni纳米线阵列及磁性能
引用本文:姜海波,胡彦杰,李春忠.脉冲电压沉积制备金属Ni纳米线阵列及磁性能[J].功能材料,2008,39(9).
作者姓名:姜海波  胡彦杰  李春忠
作者单位:华东理工大学,材料科学与工程学院,超细材料制备与应用教育部重点实验室,上海,200237;华东理工大学,材料科学与工程学院,超细材料制备与应用教育部重点实验室,上海,200237;华东理工大学,材料科学与工程学院,超细材料制备与应用教育部重点实验室,上海,200237
基金项目:国家高技术研究发展计划(863计划),国家自然科学基金,上海市重点实验室基金,上海市纳米科技专项基金
摘    要:以硫酸溶液为电解质,采用两步电化学阳极氧化法制备了氧化铝有序多孔膜,孔径为20nm,孔间距为50nm左右,孔洞密度为4.5×1010个/cm2.以此多孔膜为模板,以脉冲信号为沉积电压制备了金属Ni纳米线阵列,单根纳米线直径为15~20nm,择优取向为Ni(220)晶面.磁滞回线结果表明垂直于膜面的方向为易磁化方向,当磁场垂直于膜面时,矩形比高达90.5%,矫顽力为63.84kA/m.

关 键 词:多孔氧化铝膜  纳米线  矩形比  矫顽力

Magnetic properties and preparation of Ni nanowires array by electrochemically deposited with pulse voltage
JIANG Hai-bo,HU Yan-jie,LI Chun-zhong.Magnetic properties and preparation of Ni nanowires array by electrochemically deposited with pulse voltage[J].Journal of Functional Materials,2008,39(9).
Authors:JIANG Hai-bo  HU Yan-jie  LI Chun-zhong
Abstract:
Keywords:
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