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| 激光等离子体化学气相沉积掺氢非晶硅薄膜——一种新的LCVD方法 | |
| 引用本文： | 李兆霖,张泽渤,洪熙春,赵玉英,王天眷.激光等离子体化学气相沉积掺氢非晶硅薄膜——一种新的LCVD方法[J].中国激光,1986,13(9):589. |
| 作者姓名： | 李兆霖 张泽渤 洪熙春 赵玉英 王天眷 |
| 作者单位： | 中国科学院物理研究所，中国科学院物理研究所，中国科学院物理研究所，中国科学院物理研究所，中国科学院物理研究所 物理所1985年硕士研究生 |
| 摘 要： | 本文提出了一种新的激光化学沉积方法,即激光等离子体化学气相沉积(LPCVD)方法。这一方法的特点是利用激光等离子体将激光能量高效率地注入气体,从而使能量得到充分利用,并得到大面积范围的沉积。 文中给出了由流体力学基本方程出发导出的激波解析解,即气体压强、密度,温度和流速的时、空分布。阐明了激光等离子体引起的激波是使气体分子热离解的主要原因。描述了用此方法沉积掺氢非晶硅薄膜的实验。实验发现气体压强、流量、衬底温度和SiH_4在SiH_4和 |
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