| 磁控溅射法制备NiCr/NiSi薄膜热电偶温度传感器 |
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| 引用本文： | 贾颖,孙宝元,曾其勇,徐静.磁控溅射法制备NiCr/NiSi薄膜热电偶温度传感器[J].仪表技术与传感器,2006(2):1-3. |
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| 作者姓名： | 贾颖 孙宝元 曾其勇 徐静 |
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| 作者单位： | 大连理工大学精密与特种加工重点实验室,辽宁,大连,116024 |
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| 基金项目： | 中国科学院物理研究所科研项目 |
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| 摘 要： | 介绍了NiCr／NiSi薄膜热电偶制作方法与过程。与多孤离子镀法相比，采用磁控溅射法镀制的热电偶薄膜成分与靶材接近，膜层致密均匀、平整光滑，临界厚度薄。对研制的NiCr／NiSi薄膜热电偶进行了静态标定与动态标定，薄膜热电偶的灵敏度为40．1μV／℃，线性误差不大于0．75％，时间常数小于0．35ms．最后将薄膜热电偶温度传感器用于化爆材料模拟切削试验。
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| 关 键 词： | 薄膜热电偶 磁控溅射 化爆材料 切削温度 |
| 文章编号： | 1002-1841（2006）02-0001-03 |
| 收稿时间： | 2005-04-14 |
| 修稿时间： | 2005-11-18 |
Development of NiCr/NiSi Thin-film Thermocouples Tempreture Sensor by Magnetron Sputting |
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| JIA Ying,SUN Bao-yuan,ZENG Qi-yong,XU Jing.Development of NiCr/NiSi Thin-film Thermocouples Tempreture Sensor by Magnetron Sputting[J].Instrument Technique and Sensor,2006(2):1-3. |
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| Authors: | JIA Ying SUN Bao-yuan ZENG Qi-yong XU Jing |
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| Affiliation: | Key Laboratory for Precision and Non-traditional Machining Technology of Ministry of Education,Dalian University of Technology,Dnlian 116024,China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | thin-film thermocouple magnetron sputtering chemical explosive material cutting tempreture |
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