| 压强对磁控溅射沉积铌膜耐磨和耐蚀性的影响 |
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| 引用本文： | 崔江涛,田修波,胡新东,杨士勤. 压强对磁控溅射沉积铌膜耐磨和耐蚀性的影响[J]. 稀有金属材料与工程, 2008, 37(1): 143-146 |
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| 作者姓名： | 崔江涛 田修波 胡新东 杨士勤 |
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| 作者单位： | 1. 哈尔滨工业大学,现代焊接生产技术国家重点实验室,黑龙江,哈尔滨,150001
2. 哈尔滨工业大学,现代焊接生产技术国家重点实验室,黑龙江,哈尔滨,150001;深圳国际技术创新研究院,深圳,518057 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金 , 教育部跨世纪优秀人才培养计划 |
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| 摘 要： | 采用直流磁控溅射在钢基体上制备了铌薄膜,分别采用扫描电镜、原子力显微镜、X射线衍射仪、球盘式摩擦磨损实验机和电化学分析仪研究了不同溅射气压下铌膜表面形貌、相结构、耐磨性以及耐蚀性.结果表明:低压强下,晶粒细小,膜层平滑,晶粒择优取向为(110)晶面;压强升高使得晶粒粗大,粗糙度明显提高,择优取向转变为(211)晶面.较高的和较低的溅射压强对耐磨性和耐蚀性的提高较大,适中的压强对铌膜的性能提高反而较小,这可能是由于表面缺陷和组织结构的不同造成的.
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| 关 键 词： | 溅射气压 铌膜 耐磨性 耐蚀性 压强 磁控 溅射沉积 铌膜 耐蚀性 影响 Deposition Magnetron Sputtering Films Niobium Corrosion Resistance Wear Resistance Pressure 组织结构 表面缺陷 性能提高 转变 晶粒择优取向 粗糙度 晶粒粗大 |
| 文章编号： | 1002-185X（2008）01-0143-04 |
| 收稿时间： | 2007-01-25 |
| 修稿时间： | 2007-01-25 |
Effect of Sputtering Gas Pressure on Wear Resistance and Corrosion Resistance of Niobium Films Prepared by Magnetron Sputtering Deposition |
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| Cui Jiangtao,Tian Xiubo,Hu Xindong,Yang Shiqin. Effect of Sputtering Gas Pressure on Wear Resistance and Corrosion Resistance of Niobium Films Prepared by Magnetron Sputtering Deposition[J]. Rare Metal Materials and Engineering, 2008, 37(1): 143-146 |
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| Authors: | Cui Jiangtao Tian Xiubo Hu Xindong Yang Shiqin |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | sputtering gas pressure niobium film wear resistance corrosion resistance |
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