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| 闪烁体真空镀铝的研究 | |
| 引用本文： | 时恒昌,刘罗森,马宗超,喻运昌.闪烁体真空镀铝的研究[J].核电子学与探测技术,1985(3). |
| 作者姓名： | 时恒昌 刘罗森 马宗超 喻运昌 |
| 作者单位： | 西安电子仪器厂 (时恒昌，刘罗森，马宗超)，西安电子仪器厂(喻运昌) |
| 摘 要： | 实际使用闪烁探测器时,为保护光电倍增管及改善光的收集效果,总是在闪烁体前放置镀铝涤纶薄膜一类的金属膜反射层。采用这一方法的缺点是薄膜易损坏,而且对低能放时性的测量有较大影响。 从六十年代开始,国外有人试图在闪烁体上直接真空镀铝,但至今仍不能得到实际应用。我们从1975年开始探索在闪烁体上直接蒸镀铝层的工艺,到1980年初已开始用于生产。 一、镀膜工艺 把纯度为99.999%的铝丝剪成小段,弯成V形,经严格清洁处理后备用。蒸发源是 |
| 关 键 词： | 闪烁体 真空镀铝 质量厚度 探测效率 |
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