| 基材温度对采用磁控溅射制备的Ti-Al-Si-Cu-N涂层的微观结构及摩擦学性能的影响 |
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| 引用本文： | 冯长杰,陈恩. 基材温度对采用磁控溅射制备的Ti-Al-Si-Cu-N涂层的微观结构及摩擦学性能的影响[J]. 稀有金属材料与工程, 2017, 46(6): 1497-1502 |
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| 作者姓名： | 冯长杰 陈恩 |
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| 作者单位： | 南昌航空大学,南昌航空大学 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金项目（面上项目，重点项目，重大项目） |
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| 摘 要： | 本文中，采用反应磁控溅射技术在304不锈钢基片上沉积Ti-Al-Si-Cu-N涂层。通过扫描电镜（SEM）、能谱仪（EDS）、X射线衍射仪（XRD）、纳米压痕仪、划痕仪和球盘式摩擦磨损试验机研究了不同的基材温度对涂层结构和摩擦学性能的影响。结果表明：随着沉积温度从室温升至250 oC，涂层变得表面平滑，结构致密。硬度和弹性模量随沉积温度的升高而升高。划痕实验表明：当沉积温度分别为室温，150 oC 和250 oC时，临界载荷为3.85 N, 3.45 N 和5.10 N。当沉积温度为250 oC时，涂层的摩擦系数和磨损量最小，磨损机制主要为磨粒磨损摩擦过程中产生的磨屑主要来自GCr15不锈钢珠。在较低的沉积温度下，涂层的磨损机理主要为脆性断裂和磨粒磨损。
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| 关 键 词： | 反应磁控溅射；Ti-Al-Si-Cu-N涂层；沉积温度；磨损机理 |
| 收稿时间： | 2016-06-14 |
| 修稿时间： | 2016-09-15 |
Effects of substrate temperature on microstructure and tribological properties of Ti-Al-Si-Cu-N films deposited by magnetron sputtering |
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| fengchangjie and chenen. Effects of substrate temperature on microstructure and tribological properties of Ti-Al-Si-Cu-N films deposited by magnetron sputtering[J]. Rare Metal Materials and Engineering, 2017, 46(6): 1497-1502 |
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| Authors: | fengchangjie and chenen |
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| Affiliation: | Nanchang Hangkong University,Nanchang Hangkong University |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | reactive magnetron sputtering Ti-Al-Si-Cu-N films deposition temperature wear mechanism |
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