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CVI法快速制备C/SiC复合材料
引用本文:肖鹏,徐永东,黄伯云. CVI法快速制备C/SiC复合材料[J]. 硅酸盐学报, 2002, 30(2): 240-243
作者姓名:肖鹏  徐永东  黄伯云
作者单位:1. 中南大学粉末冶金国家重点实验室,长沙,410083
2. 西北工业大学凝固技术国家重点实验室,西安,710072
基金项目:国家自然科学基金资助项目 (5 9772 0 3 1)
摘    要:为缩短CVI法制备C/SiC复合材料的工艺周期并降低成本,研究了CVI工艺过程中沉积温度、MTS(CH3SiC3)摩尔分数和气体流量对SiC沉积速率和MTS有效利用率的影响,实验结果表明:提高沉积温度,常压下1100℃时增大MTS摩尔分数(11%→19%),都有利于提高SiC沉积速率;提高沉积温度和降低反应物气体流量,能提高MTS有效利用率,在优化的工艺条件下,预制体的微观孔隙内沉积了致密的SiC基体,沉积速率达到142μm/h左右,并有效消除了基体中裂纹的形成,MTS的有效利用率为11%-27%。

关 键 词:碳/碳化硅 化学气相浸渗 沉积速率 有效利用率 复合材料 CVI法 制备 陶瓷基
文章编号:0454-5648(2002)02-0240-04
修稿时间:2001-06-05

RAPID FABRICATION OF C/SiC COMPOSITES USING CHEMICAL VAPOR INFILTRATION METHOD
XIAO Peng ,XU Yongdong ,HUANG Baiyun. RAPID FABRICATION OF C/SiC COMPOSITES USING CHEMICAL VAPOR INFILTRATION METHOD[J]. Journal of The Chinese Ceramic Society, 2002, 30(2): 240-243
Authors:XIAO Peng   XU Yongdong   HUANG Baiyun
Affiliation:XIAO Peng 1,XU Yongdong 2,HUANG Baiyun 1
Abstract:
Keywords:carbon/silicon carbide  chemical vapor infiltration  deposition rate  conversion efficiency  composites
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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