二氧化硅膜文献索引

在用平面工艺制作半导体器件的过程中,SiO_2膜起着非常重要的作用,它被用作介质、扩散掩蔽、钝化层等。由此,对SiO_2膜的制备和特性,以及SiO_2/Si界面,进行了广泛的研究。在60年代作了大量基础工作,Schlegel编辑的两个文献索引应称这期间的重要文献。有关SiO_2用作半导体器件的隔离介质的文献已搜入新近的文献索引(见本刊1975年4～5期合刊)中,因此本索引只选录有关其它介质(氮化硅、氧化铝)的文献。