| 镀SiO2膜玻璃基片上化学气相沉积法制备SnO2:Sb薄膜 |
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| 引用本文： | 周祥,赵青南,王鹏,赵修建.镀SiO2膜玻璃基片上化学气相沉积法制备SnO2:Sb薄膜[J].硅酸盐学报,2007,35(5):600-605. |
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| 作者姓名： | 周祥 赵青南 王鹏 赵修建 |
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| 作者单位： | 武汉理工大学,硅酸盐材料工程教育部重点实验室,武汉,430070 |
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| 基金项目： | 国家高技术研究发展计划(863计划) |
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| 摘 要： | 采用化学气相沉积法在镀有SiO2膜的钠钙硅玻璃基片上制备了Sb掺杂SnO2(antimony-doped tin oxide,ATO)薄膜.研究了基板温度、基板输送速度和氮气流量对ATO薄膜结构和性能的影响.用X射线衍射仪、扫描电镜、X射线光电子能谱仪、紫外-可见光谱仪、双光束红外分光光度计对薄膜的结构、形貌和成分进行了表征.结果表明:沉积温度为490 ℃以上时,薄膜主要以四方相金红石结构存在.随着基板输送速度的提高,薄膜择优取向由(110)转变为(200).薄膜中掺杂的Sb以Sb5 的形式存在;当基板温度为530 ℃时,薄膜表面的C没有完全燃尽,以C-O形式存在于薄膜中.薄膜的可见光透过率随基板温度的升高而增大.具有(110)择优取向的薄膜的红外反射性能较好.
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| 关 键 词： | 锑掺杂氧化锡薄膜 化学气相沉积 基板温度 基板输送速度 择优取向 |
| 文章编号： | 0454-5648(2007)05-0600-06 |
| 修稿时间： | 11 18 2006 12:00AM |
PREPARATION OF SnO2:Sb FILMS ON SiO2-COATED SODA-LIME GLASS BY CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD |
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| ZHOU Xiang,ZHAO Qingnan,WANG Peng,ZHAO Xiujian.PREPARATION OF SnO2:Sb FILMS ON SiO2-COATED SODA-LIME GLASS BY CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD[J].Journal of The Chinese Ceramic Society,2007,35(5):600-605. |
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| Authors: | ZHOU Xiang ZHAO Qingnan WANG Peng ZHAO Xiujian |
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| Affiliation: | Key Laboratory of Silicate Materials Science and Engineering of Ministry of Education, Wuhan University of Technology, Wuhan 430070, China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | antimony-doped tin oxide film chemical vapor deposition substrate temperature substrate conveying speed preferred orientation |
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