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基于MOCVD高/低温调制生长AlN模板材料方法
作者姓名:龙长林  陈峰武  陈洪
摘    要:宽禁带半导体紫外光电器件和功率半导体器件的发展对AlN材料和高Al组分AlGaN材料有着迫切的需求.由于缺乏大尺寸AlN同质衬底,基于异质外延生长的AlN模板材料成为了宽禁带半导体器件制造的最佳选择.但是,由于Al原子表面迁移能力较差,AlN外延材料表面易呈现岛状生长模式,导致AlN模板材料的晶体质量和表面质量较差,严...

关 键 词:AlN  高温MOCVD  晶体质量  表面质量
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