| 聚酰亚胺/介孔二氧化硅复合薄膜的介电性能研究 |
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| 引用本文： | 马兰杰,杨志强,党智敏.聚酰亚胺/介孔二氧化硅复合薄膜的介电性能研究[J].绝缘材料,2008,41(2):60-63. |
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| 作者姓名： | 马兰杰 杨志强 党智敏 |
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| 作者单位： | 北京化工大学,纳米材料先进制备技术与应用科学教育部重点实验室,北京,100029;首钢技术研究院,北京,100041 |
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| 摘 要： | 采用原位分散聚合法制备了聚酰亚胺(PI)/介孔二氧化硅(MCM-41)复合薄膜。利用X射线衍射(XRD)、透射电子显微镜(TEM)观察到MCM-41粒子规整的六方立体结构,通过扫描电子显微镜(SEM)研究了MCM-41粒子在聚酰亚胺基体中的分散状态以及MCM-41粒子添加量对该复合薄膜介电性能的影响。结果表明:PI复合薄膜的体积电阻率和电气强度都有不同程度的提高。与纯PI相比,MCM-41含量为3.0%时,复合薄膜体积电阻率提高了一个数量级,由2.8×1014Ω.m增至2.1×1015Ω.m,同时介电常数从3.26降至2.86,介质损耗因数无显著变化。
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| 关 键 词： | 聚酰亚胺 MCM-41 复合薄膜 低介电常数 电气强度 电阻率 |
| 文章编号： | 1009-9239(2008)02-0060-04 |
| 修稿时间： | 2008年1月23日 |
Dielectric Properties of Polyimide/Mesoporous Silica Composite Films |
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| MA Lan-jie,YANG Zhi-qiang,DANG Zhi-min.Dielectric Properties of Polyimide/Mesoporous Silica Composite Films[J].Insulating Materials,2008,41(2):60-63. |
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| Authors: | MA Lan-jie YANG Zhi-qiang DANG Zhi-min |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | polyimide MCM-41 composite films low dielectric constant dielectric strength resistivity |
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