| Langmuir探针诊断微波ECR非平衡磁控溅射等离子体 |
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| 引用本文： | 张治国,陈小锰,刘天伟,徐军,邓新禄,董闯. Langmuir探针诊断微波ECR非平衡磁控溅射等离子体[J]. 真空科学与技术学报, 2005, 25(2): 110-114 |
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| 作者姓名： | 张治国 陈小锰 刘天伟 徐军 邓新禄 董闯 |
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| 作者单位： | 大连理工大学三束材料改性国家重点实验室,大连,116024 |
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| 基金项目： | 中国工程物理研究院联合基金 |
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| 摘 要： | 利用朗谬尔探针诊断了ECR非平衡磁控溅射等离子体,给出了微观等离子体参量随宏观工艺参量变化关系.实验测得基片架附近等离子体密度达到1010～1011数量级,电子温度在(5～10) eV之间.随溅射靶功率变化,等离子体密度在130W时取得最大值;同样随微波源功率变化,等离子体密度在功率为850W时也达到最大值.电子温度、等离子体空间电位变化与等离子体密度呈相同趋势.
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| 关 键 词： | ECR非平衡磁控溅射 朗谬尔探针 等离子体 诊断 |
| 文章编号： | 1672-7126(2005)02-0110-05 |
| 修稿时间： | 2004-06-07 |
Diagnostic of Microwave ECR Unbalanced Magnetron Sputtering Plasma by Langmuir Probe |
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| Zhang Zhiguo,Chen Xiaomeng,Liu Tianwei,Xu Jun,Deng Xinlu,DONG Chuang. Diagnostic of Microwave ECR Unbalanced Magnetron Sputtering Plasma by Langmuir Probe[J]. JOurnal of Vacuum Science and Technology, 2005, 25(2): 110-114 |
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| Authors: | Zhang Zhiguo Chen Xiaomeng Liu Tianwei Xu Jun Deng Xinlu DONG Chuang |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | ECR unbalanced magnetron sputtering Langmuir probe Plasma Diagnostic |
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