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NiCr高温薄膜电阻应变计制备及耐高温性能研究
引用本文:崔云先,张子超,丁万昱,胡晓勇,张启翔. NiCr高温薄膜电阻应变计制备及耐高温性能研究[J]. 仪器仪表学报, 2016, 37(7): 1548-1555
作者姓名:崔云先  张子超  丁万昱  胡晓勇  张启翔
作者单位:大连交通大学机械工程学院大连116028,大连交通大学机械工程学院大连116028,大连交通大学 材料科学与工程学院大连116028,大连交通大学机械工程学院大连116028,大连交通大学机械工程学院大连116028
基金项目:国家自然科学基金(51575074)项目资助
摘    要:针对高温环境下应力应变测试的技术难题,提出了一种以NiCr薄膜为敏感材料的高温薄膜应变计的制备方法,并对薄膜应变计敏感层的耐高温性能进行研究。研究发现,NiCr薄膜在高温下微观结构、成分发生明显转变,电学性能急剧下降。对添加SiN_xO_y和ITO薄膜后的NiCr薄膜分别进行高温测试发现,NiCr薄膜结构、性能没有明显改变,表明SiN_xO_y和ITO薄膜保护下的NiCr薄膜高温下性能稳定。所制的高温薄膜应变计在50~350℃内电阻温度系数为(80~787)×10-6/K,常温下应变灵敏系数为1.19,机械滞后为5.02,高温下的应变测试性能有待进一步研究。

关 键 词:NiCr高温薄膜电阻应变计  耐高温性能  光刻工艺  电阻温度系数

Study on fabrication of NiCr films based high temperature resistance strain gauge and its high temperature performance
Cui Yunxian,Zhang Zichao,Ding Wanyu,Hu Xiaoyong and Zhang Qixiang. Study on fabrication of NiCr films based high temperature resistance strain gauge and its high temperature performance[J]. Chinese Journal of Scientific Instrument, 2016, 37(7): 1548-1555
Authors:Cui Yunxian  Zhang Zichao  Ding Wanyu  Hu Xiaoyong  Zhang Qixiang
Affiliation:School of Mechanical Engineering,Dalian Jiaotong University,Dalian 116028,China,School of Mechanical Engineering,Dalian Jiaotong University,Dalian 116028,China,School of Materials Science and Engineering,Dalian Jiaotong University,Dalian 116028,China,School of Mechanical Engineering,Dalian Jiaotong University,Dalian 116028,China and School of Mechanical Engineering,Dalian Jiaotong University,Dalian 116028,China
Abstract:
Keywords:NiCr thin film resistance strain gauge   high temperature resistance   lithography process   temperature coefficient of resistance
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